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四氟化锗,化学式为 GeF₄,非极性分子,在常温常压(25 ℃、101.325 kPa)下为无色、具有刺激性气味的有毒气体,易潮解,遇水会剧烈水解生成锗酸和氟化氢,在干燥环境中化学性质相对稳定。四氟化锗可作为氟化剂参与有机合成反应,也能在半导体材料制备中发挥作用,其蒸汽对呼吸道和皮肤有强烈刺激性,需在密封及干燥条件下储存与运输。 

 

化学式

GeF4

中文名称

四氟化锗

英文名称

Germanium tetrafluoride

CAS No.

7783-58-6

分子量

183.63

比重(Air=1)

6.31(常温常压)

充装量

1.8 kg/L(需根据实际压力温度校准)

应用

用于锗基半导体薄膜的气相沉积(如 MOCVD 工艺),作为锗源材料制备高纯锗涂层。

产品规格

≥99.99%

 

 

 

 
 
 
 

 

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