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四氟化锗:具有独特应用的化合物​
四氟化锗(GeF₄)在常温常压下是无色气体,有刺激性气味,其熔点为 - 36.5℃,沸点为 - 5.6℃,密度比空气大。四氟化锗的化学性质相对活泼,能与水发生水解反应,生成锗酸和氢氟酸。在高温下,它还能与一些金属发生反应,形成金属氟化物和锗。​
在半导体行业,四氟化锗有着重要应用。它可作为锗源,用于半导体材料的外延生长工艺,通过化学气相沉积等方法,在衬底材料表面生长出高质量的锗基半导体薄膜,这些薄膜在高速电子器件、光电器件等领域具有独特优势,有助于提升器件的性能和功能。在一些科研领域,四氟化锗也用于研究锗化合物的性质和反应机理,为开发新型材料和化学反应提供基础数据。不过,由于四氟化锗水解会产生腐蚀性的氢氟酸,且本身也具有一定毒性,对人体呼吸道和眼睛等有刺激作用,在操作和使用过程中,一定要严格遵守安全规程,做好防护措施,避免接触和泄漏,确保人员安全与环境不受污染 。​

 
 
 
 
 

 

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