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五氟化磷：特性与生产工艺​
五氟化磷（PF₅）是无色刺激性气体，沸点 - 84.6℃，常温下易液化（压力 0.6MPa 时液化温度 25℃），核心特性是 “强路易斯酸 + 易水解”，遇水剧烈反应生成磷酸与氢氟酸21. 五氟化磷：特性与生产工艺（续）​
（PF₅ + 4H₂O → H₃PO₄ + 5HF↑），核心特性还包括 “高反应活性 + 易解离”，工业生产以 “氟化法” 为主，适配半导体与化工领域高纯度需求，工艺需严格控制反应条件，避免杂质生成。​
工业生产主流工艺为白磷（P₄）与氟气（F₂）在惰性气体（如氮气）保护下反应，在镍制反应釜中进行，反应原理：P₄ + 10F₂ → 4PF₅。工艺关键：原料纯化（白磷纯度≥99.99%，去除硫、砷杂质；氟气纯度≥99.95%，去除 HF 杂质），防止生成 PF₃、AsF₅等杂质；反应温度控制在 - 30 至 - 10℃，通过缓慢通入 F₂（流量 8-12L/h），避免局部过热导致 P₄燃烧；生成的粗 PF₅气体经冷却（降至 - 100℃以下，液化）、精馏（采用蒙乃尔合金精馏塔，塔板数 30-40 块），去除未反应 F₂、PF₃等杂质，纯度可达 99.9% 以上。电子级五氟化磷（纯度≥99.999%）需进一步纯化，采用低温吸附法（用分子筛在 - 90℃吸附水分与非金属杂质）、金属捕集器（去除微量金属离子），控制金属离子含量≤0.05ppb，非金属杂质（如 N₂、O₂）含量≤0.5ppb。生产设备需耐氟腐蚀，反应釜用哈氏合金 C276，管道用聚四氟乙烯，某电子化学品企业生产的电子级 PF₅，纯度稳定在 99.9994%，满足半导体离子注入工艺需求。​

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