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六氟化钼：特性与生产工艺​
六氟化钼（MoF₆）是无色至淡黄色液体，沸点 34℃，常温下易挥发为气体，核心特性是 “强氧化性 + 易水解”，遇水剧烈反应生成钼酸与氢氟酸（MoF₆ + 3H₂O → H₂MoO₄ + 6HF↑），工业生产以 “直接氟化法” 为主，适配半导体与材料领域高纯度需求，工艺需准确控制反应温度与原料配比。​
工业生产采用金属钼粉（Mo）与氟气（F₂）在高温下反应，在镍制反应釜中进行，反应原理：Mo + 3F₂ → MoF₆。工艺关键：原料纯化（金属钼粉纯度≥99.999%，去除铁、镍杂质；氟气纯度≥99.95%），防止生成 FeF₃、NiF₂等杂质；反应温度控制在 250-300℃，通过分阶段升温（初期 100℃预热钼粉，后期升温至反应温度），确保反应完全；生成的粗 MoF₆液体经蒸馏（采用石英蒸馏装置，温度 40-50℃，真空度 0.08MPa），去除未反应 Mo 粉与低沸点杂质，纯度可达 99.9% 以上。电子级六氟化钼（纯度≥99.999%）需进一步纯化，采用减压精馏（真空度 0.095MPa，温度 35-40℃）、吸附法（用活性氧化铝吸附 HF 与水分），控制金属离子含量≤0.03ppb，非金属杂质（如 HF、F₂）含量≤0.3ppb。生产设备需耐强腐蚀，反应釜用哈氏合金 C276，蒸馏装置用石英，某半导体材料厂生产的电子级 MoF₆，纯度稳定在 99.9993%，满足半导体金属化工艺需求。​

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