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 四氟化硅:光纤与陶瓷制造的关键原料​
四氟化硅(SiF₄)是无色刺激性气体,熔点 - 90.2℃,沸点 - 86℃,遇水生成硅酸和氢氟酸,属于强腐蚀性气体,纯度≥99.99% 的产品可用于某些制造领域。其核心应用是光纤预制棒制造(作为硅源)与高性能陶瓷合成,能提升材料的致密度与耐温性。​
工业制备有两种路径:一是硅与氟气直接反应(温度 300-400℃);二是二氧化硅与氢氟酸反应,生成的四氟化硅经干燥、精馏提纯。某陶瓷企业用四氟化硅制备氮化硅陶瓷,通过化学气相沉积工艺,陶瓷致密度达 99.5%,耐温性突破 1800℃。​
安全储存需使用耐腐蚀容器:材质选用聚四氟乙烯或镍合金,设计压力≥1MPa;操作时佩戴防氢氟酸防护装备,作业区配备应急喷淋与洗眼器。泄漏时立即疏散人员,用氢氧化钠溶液喷雾吸收,严禁接触皮肤与眼睛。​

 
 
 
 
 

 

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