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五氟化磷：强路易斯酸气体的合成及半导体掺杂应用
五氟化磷（PF₅）是一种无色有刺激性气味的气体，分子量125.97，熔点-93.8℃，沸点-84.6℃，标准状态下密度5.527g/L，分子呈三角双锥形，是典型的强路易斯酸，化学性质特别活泼，遇水和醇会剧烈水解，生成磷酸和氟化氢，释放大量热量，在潮湿空气中因水解产生浓烈白雾，对玻璃、金属等均有腐蚀性。它易溶于苯、四氯化碳等有机溶剂，可与氨等路易斯碱形成稳定配位化合物，高温下可分解为三氟化磷和氟气。
制备上，工业常用三氟化磷与氟气在加热条件下直接化合，或五氯化磷与氟化钙反应合成，产物经低温精馏提纯，纯度可达99.99%以上。电子工业中，它是半导体制造的关键掺杂气体，用于离子注入工艺，准确引入磷杂质形成N型半导体区域，提升器件性能；同时作为等离子体刻蚀的辅助气体，可优化刻蚀速率与选择性，适配集成电路、液晶面板等生产环节。此外，它在有机合成中用作氟化剂，能快速有效引入氟原子，还可用于制备含磷氟配位化合物。五氟化磷毒性强，对呼吸道、眼睛有强刺激，吸入可能引发肺炎，操作需全程密闭，废气需经碱性溶液吸收处理，避免污染与安全风险。

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