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氟化氢：高腐蚀性氢化物的制备及半导体/化工核心应用
氟化氢（HF）是由氢和氟组成的无机化合物，常态下为无色有刺激性气味的气体，液态时为无色液体，分子量20.01，熔点-83.3℃，沸点19.5℃，具有特别强的ji性，分子间存在氢键，使其沸点远高于同主族氢化物，且能与水以任意比例互溶，形成氢氟酸，浓度越高腐蚀性越强，是已知腐蚀性至强的物质之一，能与玻璃中的二氧化硅反应，生成四氟化硅气体，故需用塑料或铅制容器储存。
工业制备以萤石（CaF₂）与浓硫酸在加热条件下反应为主，生成的氟化氢气体经冷凝、精馏可获得高纯度产品。电子工业中，它是半导体制造的核心材料，用于硅片清洗、湿法刻蚀，可准确去除表面氧化层与杂质，还用于光伏电池的制绒工艺，提升电池转换效率；化工领域，它是制备氟里昂、含氟聚合物、氟制冷剂的基础原料，同时用于生产氟化铝等铝工业助剂。此外，氢氟酸在石油化工中用作烷基化催化剂，医药行业用于合成含氟药物。但氟化氢特别具有危险性，皮肤接触会造成深度灼伤，且恢复缓慢，吸入其蒸气可致肺水肿，操作需穿戴防化服、护目镜，废弃处理需用石灰乳等碱性物质中和，严格遵循环保与安全规范。

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