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四氟化硅:水解性气体的回收制备及半导体/光纤应用
四氟化硅(SiF₄)是无色有窒息性气味的气体,分子量104.08,熔点-90.2℃,沸点-86℃,密度4.67g/L,分子呈正四面体构型,化学性质活泼,遇水迅速水解生成硅酸和氟化氢,在潮湿空气中因水解产生浓白雾,与碱溶液反应生成氟硅酸盐和水,干燥状态下相对稳定,可储存于钢瓶中,具有腐蚀性,尤其对含硅材料有侵蚀作用。
工业上,四氟化硅主要来源于萤石与硅石在浓硫酸作用下的反应,或硅与氟气直接化合,也可作为磷肥生产的副产物回收,经提纯后获得高纯品。电子工业中,它是制备高纯硅的重要原料,通过氢还原法可得到电子级硅,用于半导体器件制造;同时用于化学气相沉积,制备二氧化硅、氮化硅等薄膜,适配集成电路、光伏电池的生产工艺。此外,它在光纤通信领域用于制备光纤预制件,提升光纤的光学性能,还可用于合成氟硅酸盐,作为搪瓷乳白剂、玻璃添加剂等。四氟化硅毒性较强,吸入会刺激呼吸道,引发呼吸困难,甚至导致肺炎,操作需在密闭通风环境中进行,废气需经碱性溶液吸收处理,防止泄漏造成危害。

 
 
 
 
 

 

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